四氟化碳亦称全氟化碳、四氟甲1烷、全氟化碳,为非腐蚀性气体,所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜,铝等金属材料都可以使用。产品经除尘,碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去O2、N2、H2,得到高纯CF4。由碳与氟反应,或一氧1化碳与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,或二氟二氯甲1烷与反应,或四氯1化碳与氟化银反应,或四氯1化碳与氟1化氢反应,都能生成四氟1化碳。
高纯四氟化碳是纯度在99.999%以上的四氟化碳产品,是一种无色无味气体。高纯四氟化碳不可燃烧,在常温常压条件下化学性质稳定,在密闭容器中遇高热有危险,不溶于水,可溶于苯、等部分溶剂。四氟化碳是当前微电子工业中应用量高的等离子体蚀刻气体,被广泛应用在硅、氮化硅、磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻。除此之外,四氟化碳还能在电子电器表面清洗、激光、低温制冷、太阳能电池等领域有着应用。由碳与氟反应,或与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,都能生成四氟化碳。
储存注意事项:储存于阴凉、通风的不燃气体库房。远离火种、热源。库温不宜超过30℃。应与易(可)燃物、氧化剂分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。四氟化碳作为制冷剂是一种无色不可燃气体,能够保障液体运输的安全性。在临床医学中,四氟化碳还是一种高浓度的醉剂。由以上看出,四氟化碳的应用范围广泛,在下游电子产业等带动下,行业快速发展。是微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,高纯气高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。
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